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研磨抛光机 Qpol M1 / M2

使用可靠,操作简便

Qpol M1 和 M2 是手动单盘或双盘研磨抛光机,适用于材相学实验室,适合直径 200、250 和 300mm的工作盘。强大的驱动装置配有速度控制,能够处理各种材料。该设备坚固耐用,采用高品质技术,运行平稳,能提供最佳的制备效果。

优点

  • 易于使用: 符合人体工程学的集成触控面板清晰显示所有过程参数以及方便手动制备的功能,并且可以随时轻松更改。
  • 可重现的制备结果: 可调计时器和可视化当前接触压力的扭矩显示,有助于实现舒适且可重现的手动制备步骤。
  • 自动化流程: 坚固耐用的设备可与 Qdoser GO 自动加液系统配合使用。因此,它能够实现双手抛光样品,并以最佳剂量添加金刚石悬浮液。

研磨抛光机 Qpol M1 / M2 性能指标

耐用可靠

机器主体采用坚固的焊接铝制结构,并配有高品质、耐用的粉末涂层

  • 低振动设计确保操作极其平稳
  • 强大的速度控制驱动装置,性能稳定,即使处理大样品也游刃有余
  • 抗冲击塑料内槽具有出色的耐用性、耐腐蚀性和易于清洁的特点

简易清洁系统

单盘设计:所有部件易于拆卸,方便操作

  • 防溅挡圈和工作盘可轻松拆卸,从而减少设置和清洁时间
  • 碗衬(塑料内衬)易于更换或清洁,以去除研磨料和悬浮液残留

坚固的可拉出式水龙头

工作区域和研磨槽易于彻底清洁

  • 清洁加速功能:可清除研磨/抛光介质上的残留液体(在750 转/分的转速下3秒内甩干)
  • 在制备过程开始和结束时,水阀会自动开启
  • 坚固的水龙头配有可伸缩的软管延长件
试样夹具

符合人体工程学设计的防溅挡圈

用户友好型设计,可快速更换耗材

  • 符合人体工程学的防溅挡圈可显著减少飞溅,并可在长时间操作时作为舒适的手托
  • 即使防溅挡圈在位,也可通过把握凹槽轻松更换研磨/抛光介质

工作安全

由于抛光碗区域宽敞,防溅挡圈安装松弛,操作安全性高

  • 防溅挡圈与工作盘之间的狭小间隙确保操作安全
  • 按下急停按钮可立即停止所有移动部件

可选: Qdoser加液系统

可选配半自动或软件控制的加液系统,以实现高度的过程灵活性

  • Qdoser GO:全自动、软件控制的加液系统,配备 4 个易于拆卸和重新补液的加液瓶,可获得可重复的制备效果(可选配磁力搅拌功能)
  • Qdoser ONE: 滴液瓶,便于轻松、连续性加液

 

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所有一切都一目了然 直观且易于使用

符合人体工程学的7英寸工业触摸屏,配备 QATM 用户软件

  • 直观的菜单结构和简单的配置
  • 通过状态栏显示当前程序的进度,并在研磨/抛光过程结束时发出声音信号
  • 内置计时器和直接显示扭矩/接触压力,以实现高重复性

研磨抛光机 Qpol M1 / M2 超凡细节

1. 工作盘: Ø 200/250/300 mm
单盘设计,易于更换工作盘
 

2. 可选配第二工作盘

步骤之间的准备时间更短
 

3. 一键式简单操作

耐用的不锈钢启动按钮,可直接启动/停止机器
 

4. 清晰的参数设置

经过实践验证且设计新颖的方法

5. 符合人体工程学的防溅挡圈

防止飞溅并提供符合人体工程学的手托

6. 自动水阀

在过程开始和结束时可自动启动水

7. 可选加液系统

支持双手操作并确保最佳应用

高度的过程灵活性 Qdoser加液系统

全自动、软件控制的 Qdoser 加液系统加快了材相学实验室中的研磨和抛光过程,并且与 Qpol M、GO 和 PLUS 系列设备兼容。四个带螺纹盖的 500 毫升玻璃瓶可通过盖子上的单独开口注入 QPREP 金刚石悬浮液、QPREP 润滑剂(金刚石润滑剂)和/或 QPREP 细抛光悬浮液。悬浮液储存瓶易于拆卸,便于清洁。反冲洗功能可保持连接软管的清洁。

优化的填充和滴液

这些悬浮液储存瓶可以随时取下,并以最适合应用的方式进行重新填充,比如:

  • Qdoser GO: 4x Dia-COMPLETE 金刚石悬浮液

可选: 磁力搅拌器

可选配磁力搅拌器,用于搅拌抛光剂以获得出色的制备效果

  • 集成的磁力搅拌器可防止悬浮液沉淀
  • 通过自动搅拌悬浮液实现抛光颗粒的均匀分布

 

加液

简便的抛光剂加液功能,实现高度的灵活性和易用性

  • 通过 Qpol 机器上的工业触摸屏实现全自动、软件控制的加液
  • 加液间隔可根据需要进行调整

Qdoser ONE

用于简便且持续加液的滴液瓶

  • 使用简便 – 标准的QATM悬浮液和润滑剂瓶能够迅速、轻松地安装到滴液器上
  • 连续可变的加液速率 – 通过一个调节旋钮精确控制滴液速率
  • 可与支架配合使用,也可安装在抛光头上使用

 

完美的研磨和抛光 - QATM 耗材

研磨和抛光在使用正确的工具(知识、护理以及正确选择的耗材和设备)进行加工时,会更加可靠、安全和高效。

研磨抛光机 Qpol M1 / M2 技术参数

研磨抛光机 Qpol M1

单盘装置
工作盘ø 200/250/300 mm
抛光槽内径ø 350 mm
试样夹具-
样品数-
接触力manually
转速 (磨抛机)30 - 600 rpm, 连续可调
转速 (磨抛头)-
水压1x 自来水 G ½" 最大6 bar
加液装置 (可选)Qdoser GO, Qdoser ONE
环境温度10 - 40 °C
运行功率工作盘: 0.75 kW (S1) / 1.1 kW (S3)
连接功率1.4 kVA
电源连接220 - 240 V, 50/60 Hz (1 Ph/N/PE)
100 - 120 V, 50/60 Hz (1 Ph/N/PE)
界面USB
B x H x T511 x 293 x 756 mm
重量(取决于设备)approx. 40 kg

研磨抛光机 Qpol M2

双盘装置
工作盘ø 200/250/300 mm
抛光槽内径ø 350 mm
试样夹具-
样品数-
接触力manually
转速 (磨抛机)30 - 600 rpm, 连续可调
转速 (磨抛头)-
水压1x 自来水 G ½" 最大6 bar
加液装置 (可选)Qdoser GO, Qdoser ONE
环境温度10 - 40 °C
运行功率工作盘: 0.75 kW (S1) / 1.1 kW (S3)
连接功率1.4 kVA
电源连接220 - 240 V, 50/60 Hz (1 Ph/N/PE)
100 - 120 V, 50/60 Hz (1 Ph/N/PE)
界面USB
B x H x T901 x 293x 749 mm
重量(取决于设备)approx. 60 kg

保留技术变更和出错的权利