自动研磨抛光设备

使用半自动磨抛机时,可以选用单点力或中心力。中心力可以处理镶嵌、不镶嵌或超大尺寸试样。如果需要,当与定量去除功能结合使用时,可以自动磨抛到指定的样品高度。采用单点力,可在一个试样夹具中同时制备6个(取决于试样夹具)不同尺寸的样品,每个样品均由单独的活塞柱按压。

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  • 单盘或双盘单元
  • 工作盘: Ø 200/250/300 mm
  • 单点力: 6 Samples Ø 40 mm, 试样夹具: Ø 130 mm
  • 中心力: 5 Samples Ø 40 mm, 试样夹具: Ø 130 mm
  • 得益于GO磨抛头,样品制备过程十分简便
  • 单盘或双盘单元
  • 工作盘: Ø 200/250/300 mm
  • 单点力: 6 Samples Ø 50 mm, 试样夹具: Ø 160 mm
  • 中心力: 5 Samples Ø 50 mm, 试样夹具: Ø 185 mm
  • 即使是大样品也可轻松制备
  • 工作盘: Ø 200 - 300毫米
  • 单点力和中心力: 6xØ50毫米
  • 程序存储可得到重复的结果
  • 加液系统(可选): 6位
  • 单盘装置
  • 工作盘: Ø 200-300毫米
  • 单点力和中心力: 6xØ50毫米
  • 程序存储可得到重复的结果
  • 加液系统(可选): 6位
  • 双盘装置
  • 工作盘: Ø 300/350毫米
  • 中心力: 50–750 N
  • 集成的清洗站(可选)
  • 集成的模块式加液系统(可选)
  • 抛光槽内径: ø 308毫米
  • 振动频率: 60 - 120赫兹,自动调节
  • 环境温度: 10-40 °C
  • 运行功率: 135伏安
  • 界面: USB、以太网
  • 连接功率: 0.25千伏安