振动抛光机 Qpol Vibro

振动抛光设备 Qpol Vibro 旨在几乎不造成变形地准备样品表面。它非常适合进一步的特性分析,例如 EBSD(电子背散射衍射)、AFM(原子力显微镜)分析以及纳米压痕或微硬度测试。

直径为 Ø = 308 毫米的震抛碗提供了足够的空间用于抛光完全填满的样品架、大型样品,以及同时抛光多达 21 个样品。震抛碗由强磁铁固定,按下按钮就可以轻松移除,并通过简单地动作将其放回设备中来回更换 — 磁力将完成它们的工作。

夹紧环保护了抛光布的边缘,以确保长期的使用寿命。此外,该环界定了抛光区域,并使样品架能够均匀移动。碗设计用于在磁性系统上使用抛光布。因此,抛光布快速且容易被移除。


Qpol Vibro

优点

  • 工作盘直径300/350 mm
  • 强大的动力:磨盘驱动电机功率为2.2KW-磨抛头驱动电机功率为1.1KW
  • 带电子测量系统的力值控制(50 - 750 N)
  • 多达6个加液瓶和可选磁力搅拌器的模块化加液系统
  • 自动旋转的加液臂可以确保给工作盘提供均匀的湿润
  • 磨盘甩干功能 (加速清洁)
  • 电动安全防护罩实现充分的安全保障
  • 快速,便捷且无需工具的磨盘更换

对制备好的表面进行分析和表征


  • EBSD-奥氏体
  • 奥氏体组织
  • 奥氏体的图案指数

自动立式磨抛机Qpol XL 超凡细节

1. 坚固的外壳

  • 坚固的粉末涂层铝制外壳
  • 易于清洁

2. 可更换的抛光碗

  • 磁性固定系统可实现快速更换
  • QATM Surface-Guard(表面防护)功能可降低悬浮液结晶几率

3. 4.4英寸触摸屏

  • 直观简单的操作
  • 预安装的制备方法
  • 多达200个用户自定义制备方法

4. 缓冲式罩盖

  • 保护样品和抛光布免受污染
  • 便于进行直观检查

振动抛光机 Qpol Vibro 优势

Qpol Vibro 基于其坚固的高品质设计、创新的振动传输角度以及带有振动补偿的振动电机,提供无声运行。它可能连续运行数小时而不产生任何明显的噪音。振动电机的振动补偿防止振动传递到机器外壳或工作台,从而确保 Qpol Vibro 的无声操作。排气连接插头可以连接到外部排气系统,以安全排出水分或气体,为操作员提供一个安全的工作环境。

透明的、阻尼关闭的铰链式罩子展示了 QATM 机器和设备的高品质。它保护悬浮液和样本免受污染,以实现最佳的制备结果。Qpol Vibro 提供了丰富的功能,但仍然紧凑轻巧 - 仅重 45 公斤,非常适合作为台式设备使用。

振动抛光机 Qpol Vibro 抛光-简单三步


  • 设置安装震抛碗
  • 放入镶嵌好的样品
  • 加入悬浮液

简单聪明 新设计的用户界面

Qpol Vibro 软件的创新设计提供了直观和用户友好的操作。15种不同材料的制备方法预先安装,连同相应的耗材。Qpol Vibro 提供最多200种定制方法的存储,既可以在设备上也可以通过USB,允许从一个设备转移到另一个设备。这些方法可以无限制地在持续时间或振动强度上进行编程。该设备可在手动或自动模式下操作。可选的提醒功能(计时器)可告知操作员程序已结束。QATM 发明了一种特殊的操作模式,以在制备完成后保护准备好的表面:表面保护功能通过防止例如腐蚀,来保持准备好的表面的高质量。

Qpol Vibro 配备了自动频率控制,这可以根据振抛碗的具体负载优化振荡频率。Qpol Vibro 可以无需监督且几乎无时间限制地操作。这能够获得最佳的抛光结果,并为用户节省其他任务的时间。

  • QATM表面防护功能

左侧:样品上腐蚀
右侧:使用表面防护功能

  • 主菜单
  • 自动模式
  • 耗材菜单
  • 制备方法菜单

为了获得最佳结果 丰富的配件选项


夹具

  • 直径 25-25.4 毫米(1英寸),重量 300 克,额外重量 90 克
  • 直径 25-25.4 毫米(1英寸),重量 300 克,额外重量 90 克
  • 直径 38-40 毫米(1 1/2英寸),重量 550 克,额外重量 190 克
  • 直径 50 毫米(2英寸),重量 360 克,额外重量 190 克

Qpol vibro 的调平盘

  • 调平镶嵌的样品
  • 适用于直径为25-50毫米,1-2英寸的样品
  • 专用于直径为60毫米和70毫米样品的调平盘

特殊样品夹具

  • 直径 60 毫米,重量 875 克,额外重量 190 克
  • 直径 70 毫米,重量 605 克,额外重量 190 克

抛光池

  • 大型磨抛碗,直径为308毫米(内径),用于抛光未镶嵌样品、锁紧样品夹具,以及同时抛光多达21个样品。
  • 由于采用了释放按钮和磁性系统,更换磨抛碗快捷且容易。
  • 通过磁力强力固定震抛碗
  • 专为所有带有磁性系统的抛光布设计
  • 盖子保护抛光布免受污染

抛光布

  • Iota, 直径300毫米(长绒毛,软质合成布)
  • Zeta, 直径300毫米(短绒毛,软质合成布)
  • 可以提供更多300mm直径的抛光布

各种抛光液

  • Eposal
  • Eposil F, Eposil M
  • Eposil Non Dry
  • Etosil E

振动抛光机 Qpol Vibro 小技巧和窍门

  • 对于不同材料的重复抛光过程,只需为每种材料使用不同的抛光碗即可。
  • 配重:对于硬质样品材料或低质量材料,应使用额外的重量。重量的数量取决于材料的硬度和样品的大小
  • 如何改善您的制备过程? 直接从 QATM 标准制备方法的最后一步开始,并在 Qpol Vibro 中预安装的针对特定材料的抛光方法中选择一个。
  • 我们建议首先研磨和抛光您的样品,例如根据 QATM 标准化制备方法。振动抛光是该过程的下一步。

振动抛光方法

材料 悬浮液 布,织物 频率 时间(时) 配重块
钢硬度在50-150HV之间 Eposal IOTA 85 02:00 1-2
钢硬度在150-350HV之间 Eposal IOTA 85 01:30 1-2
钢硬度在350HV之上 Eposal IOTA 85 01:00 2-3
铸铁 Eposal IOTA 85 02:00 2-3
奥氏体不锈钢 Eposal IOTA 90 02:00 2
铝和铝合金 Eposil M IOTA 90 01:30 1
铜及铜合金 Eposil M IOTA 90 01:00 1
钛及钛合金 Eposil M11 IOTA 90 02:00 1-2
镍基合金 Eposil M11 IOTA 90 06:00 2
铅合金 Eposil M IOTA 85 03:00 1
玻璃 Eposal IOTA 90 06:00 2
陶瓷 Eposil M IOTA 90 06:00 2-3
矿物 Eposal IOTA 90 06:00 2
岩石 Eposal IOTA 90 06:00 2
清洗模式 水和肥皂水 50:50 IOTA 90 00:10 0

完美的研磨和抛光 - QATM 耗材

研磨和抛光在使用正确的工具(知识、护理以及正确选择的耗材和设备)进行加工时,会更加可靠、安全和高效。

完美的研磨和抛光 - QATM 耗材

研磨和抛光在使用正确的工具(知识、护理以及正确选择的耗材和设备)进行加工时,会更加可靠、安全和高效。

振动抛光机 Qpol Vibro 技术参数


抛光布 300毫米,305毫米(12 " )
界面 USB、以太网
排气连接 Ø 40毫米
振动频率 60 - 120赫兹,自动调节
环境温度 10-40 °C
电源连接 220 - 240 V,50/60 Hz (1 Ph/N/PE)
100 - 120 V,50/60 Hz (1 Ph/N/PE)
运行功率 135伏安
抛光槽内径 ø 308毫米
B x H x T 510 x 300 x 590毫米
重量(取决于设备) ~ 45 kg

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