Saphir 560（Rubin 520）是新一代等径双盘磨抛机，它采用创新 的磨抛头，工作盘直径为200-300 mm。
Rubin 520磨抛头配备了一个自动防护罩，为安全操作设定了新 标准。单点力和中心力加载、程序存储、集成的自动 加液系统及材料磨削量精确控制只是其部分功能。
带气动夹持的电动高度设置功能，结合主机的所有其他特征，saphir 550满 足最高的制样需求。磨削深度可以按照0.01 mm的精度预设，并在制样过程中全自动测量。在达到预设值时，制样过程会自动停止。
优点
- 带有Rubin520的双盘研磨/抛光装置
- 单点力和中心力控制
- 磨盘速度和动力头速度可调
- 触摸屏式的电子控制
- 储存切割程序
- 动力头可顺时针/逆时针旋转
- 高度和侧向位置记忆功能
完美研磨 - QATM 的耗材
如果使用正确的方法：知识、细心以及正确选择耗材和设备，研磨就会更加可靠、安全和高效。
完美的研磨和抛光 - QATM 耗材
研磨和抛光在使用正确的工具（知识、护理以及正确选择的耗材和设备）进行加工时，会更加可靠、安全和高效。
研磨抛光机 Saphir 560 / Rubin 520 技术参数
| 工作盘 | Ø 200-300毫米 |
|---|---|
| 样品数量（单点） | 1-6个样品Ø50毫米 |
| 单点加载压力 | 5-80 N |
| 中心加载压力 | 基于夹持器 |
| 连接电源 | 5.5千伏安 |
| 运行功率（基础） | 2x0.75千瓦S6/40% |
| 运行功率（研磨控制头部分） | 0.17千瓦S1 |
| 转速（磨抛机） | 50-600rpm |
| 转速（研磨控制头部分） | 30-150rpm |
| 宽 x 高 x 深 | 1020 x 550 - 650 x 660毫米 |
| 重量 | ~110公斤 |
| 水压 | 1x 进水 R½" 最大 6 bars |
